TP基础知识与常见lcd结构形式介绍

1、 触控屏幕的结构 框贴 全贴合触摸屏 电阻式玻璃或硬塑料平板作为基层，表面透明氧化金属导电层隔层外表面导电层特点是屏幕是软屏，按下去有轻微的凹陷，需稍用力触摸，可用任何手写笔，但不支持多点触控电容式：电容技术触摸屏是利用人体的电流感应进行工作特点是屏幕是硬屏，触摸灵敏，不用用力按压屏幕，支持多点触摸，但只能用手指触摸常见电容屏结构 GFF (Glass-Film-Film)、 G1F (Glass-Film)、 GG (Glass-Glass) 薄膜电容式触控面板；铟锡氧化物(Indium Tin Oxide；ITO)膜 属玻璃电容式触控面板，G+G，玻璃基板上溅镀ITO图样(Pattern)

2、ITO材料ITO 是Indium Tin Oxides的缩写。ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标：电阻率和透光率。在氧化物导电膜中，以掺Sn的In2O3(ITO)膜的透过率最高和导电性能最好，而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形，其中透光率达90%以上。ITO中其透光率和阻值分别由In2O3与SnO2之比例来控制，通常SnO2:In2O3=1:9。 In203里掺入Sn后，Sn元素可以替代In2O3晶格中的In元素而以SnO2的形式存在，因为In2O3中的In元素是3价，行程SnO2是将贡献一个电子到导带上，同时在一定的缺氧状态下产

3、生氧空穴，使得ITO薄膜具有半导体的导电性能。目前ITO膜层之电阻率一般在5*10-4左右，最好可达5*10-5，已接近金属的电阻率，在实际应用时，常以方块电阻来表征ITO的导电性能，其透过率则可达90%以上，ITO膜之透过率和阻值分别由In2O3与Sn2O3之比例控制，增加氧化锢比例则可提高ITO之透过率，通常Sn2O3： In2O3=1：9，因为氧化锡之厚度超过200时，通常透明度已不够好-虽然导电性能很好。各类型结构图G+G 主要使用的是双面ITO玻璃，操作时候容易管控，良率比膜要高，支持大屏的多点触控，缺点：厚度较厚，常用于平板电脑居多。G+G一般是0.55mm（盖板 也有0.7mm）

4、+0.15mm（水胶）+0.4mm （sensor）G+F 常用的是单点触控，和两点触控，当然工艺现在优化后，可以单层多点触控。缺点似乎是干扰比较强。G+F+F 作用同双面ITO玻璃，TP良率相对较低。优点是：多点触控和针对双层来说，比较薄。功能比较稳定的工艺。ITO图形比单层较复杂，因为苹果有单片sensor单层双面镀ITO的专利，所以其他的TP厂只好使用多加一层flim膜来弥补G+F+F 0.55MM+0.075+0.125+0.05+0.125MMOGS 功能电路印刷在面板上，优点是薄 缺点：功能纹路相比较明显，抗干扰还是不足，OGS生产良率比较低，因为二次强化损伤功能线路。部分公司的O

5、GS没经过二次强化，因此面板硬度不够。IN-cell/On-cell :只是为了更轻薄的设计，是OGS类型，只是比OGS做得还薄。OGS 一般是0.7mm的强化玻璃，0.55也有，比较软，除非用非常不错的基材单层film对pattern的图案要求高，使用合适的图案触控才会灵敏，双层film的触控效果要好于单层film，所以很多低端机都用单层film，相对成本也低，符合cost down 效益黄光制程 1，清洗 2，涂覆光刻胶 3，烘干 4，曝光，显影 5，蚀刻 6，脱膜常用LCD TFT，IPS （In-Plance switching）色彩更为真实，整体画面清新自然，色阶范围较宽，亮部和暗部细节表现充分。不足之处在于，色彩较为平淡，视觉冲击力较弱AMOLED(Active Matrix/Organic Light Emitting Diode主动矩阵有机发光二极体面板)AMOLED屏幕的构造有三层，AMOLED屏幕Touch Screen Panel（触控屏面板）外保护玻璃。AMOLED是OLED技术的一种，OLED代表着它是自发光显示器，利用多层有机化合物来实现独立R、G、B三色光。它的前缀AM（主动矩阵）相对的是PM（被动矩阵），它比后者的细节还原更细腻，而且响应时间也更快AMOLED、Super AMOLED、Super AMOLED Plus