黄光制程工艺流程

1、黄黄 光光 制制 程程2013.9.10总流程图2BM制程ITO1制程OC1制程ITO2制程MAM制程OC2制程Glass 黄光制程：黄光制程：通过对涂覆在玻璃表面的光敏性物质(又称为光刻胶或光阻)，经曝光、显影后留下的部分对底层起保护作用，然后进行蚀刻脱膜并最终获得永久性图形的过程。 3制程流程4CleanIR/UV/CPCTPre-bakeExpoDevGlassPost-bakeEtchStripSputterClean 素玻璃经过清洗、烘烤后进入真空室进行溅镀ITO/MAM。5GlassGlassGlass6CleanCleanGlass Cleaning：去除玻璃表面的脏污、油污等，

2、使玻璃表面清洁，以保证后续光阻的涂布效果及结合力。主要控制参数：主要控制参数：清洗液浓度，清洗速度，脱脂毛刷压入量。Cleaning7CleanClean成膜前清洗流程：入料液切洗涤剂喷淋洗涤剂刷洗液切冲洗纯水刷洗高压喷淋中压喷淋二流体喷淋末端DI水喷淋风刀吹干出料 Cleaning8SputterSputterSputter9CleanCleanGlass Cleaning：去除玻璃表面的脏污、油污等，使玻璃表面清洁，以保证后续光阻的涂布效果及结合力。主要控制参数：主要控制参数：清洗液浓度，清洗速度，脱脂毛刷压入量。Cleaning10CleanClean清洗流程：入料液切洗涤剂喷淋洗涤剂刷

3、洗液切冲洗纯水刷洗高压喷淋中压喷淋二流体喷淋末端DI水喷淋风刀吹干出料 Cleaning11IR/UV/CPIR/UV/CPIR UV CPIR：高温烘干玻璃表面水分。UV：去除玻璃的表面的有机物，使玻璃被进一步清洁。CP：将玻璃温度冷却至室温。主要控制参数：主要控制参数：IR温度，传导速度。12CTCTCoating：在玻璃正面均匀的涂上一层感光物质光阻。光阻光阻(Photo resist，简称，简称PR)：光阻是利用材料光化学反应进行图形转移的媒体，有正性光阻和负性光阻之分。正性光阻经过紫外曝光后，被曝光的区域发生光分解或降解反应，使性质发生变化优先溶于正性显影液，未曝光的部分则被保留形成

4、正型图形。负性光阻的性质正好与之相反，是未被曝光的部分溶于负性显影液中。主要控制参数：主要控制参数：Roller的前挤量及下压量，涂布速度，抽泵频率，抽泵强度。主要参考参数：主要参考参数：膜层厚度(属过渡光阻,膜厚1.42.3um)，膜层均匀性。主要品质异常：主要品质异常：涂布针孔、涂布箭影。Coating13CTCTCoatingCoater一般分为Roll Coater，Slit Coater，Spin Coater。我们公司用的是Roller。我们公司的BM&OC1用的是Inkjet印刷，而OC2用的是APR凸版印刷。14Pre-bakePre-bakePre-Bake ：也叫s

5、oft bake。将光阻中的大部分有机溶剂烘烤到4%7%，使原本液态的光阻固化。主要控制参数主要控制参数: :烘烤时间，烘烤温度，烘烤热板Pin高度。主要品质异常：主要品质异常：玻璃受热不均，使光阻局部过烤或烘烤不足，造成后续的显影不净或显影过显。Pre-Bake15EXPOEXPOExposure：此步骤是黄光制程中的关键所在，通过曝光，使受到光照的部分光阻溶解于显影液的速度异于未曝光的那部分光阻，从而达到转移光罩上图形的过程。曝光方式有三种：接触式、接近式和投影式。其中投影式又分scan和step。我们公司采用的曝光方式为接近式，曝光GAP值 一般为100250m。主要控制参数主要控制参数

6、：曝光能量，曝光GAP，曝光机plate stage温度。主要品质异常：主要品质异常：曝光偏移，固定光阻残留异常，过曝。Exposure16EXPOEXPO曝光波长：i线（365nm）， h线（405nm）， g线（436nm）。Mask：也叫掩膜板。电路图即是通过曝光从Mask上转移到玻璃上。高压汞灯发光原理：在真空的石英管中加入定量的高纯汞，通过对两端电极提供高电压差，产生高热，将汞汽化，汞蒸气在高电位差下，受激发而放电，从而产生紫外线辐射。内部的卤素元素，就有催化及保护的功用。Exposure17DEVDEVDeveloping：将(正性)光阻中的被曝光的那部分光阻溶解快速显影液中(负性

7、光阻正好与之相反,是未曝光的部分溶于显影液中),未曝光的那部分光阻溶解速度缓慢，从而通过控制显影时间，可以显现出光罩上的图形。主要控制参数：主要控制参数：显影时间，显影液浓度，显影温度，显影喷压。主要品质异常：主要品质异常：显影不净，显影过显，光阻回黏。 Developing18DEVDEV显影液：TMAH (Tetramethyl Ammonium Hydroxide)，四甲基氢氧化铵，分子式(CH3)4NOH,是一种有机弱碱，浓度为2.38%（ITO1&ITO2&MAM)或者0.4%（BM&OC1)。我们公司用的是KOH。 Developing19Post-bake

8、Post-bakePost Bake：也叫Hard bake。使经显影后的光阻固化，从而使其图形稳定。主要控制参数：主要控制参数：烘烤温度，烘烤时间。Post Bake20ADIADIAfter Developing Inspection：检查玻璃品质。ADI21CDCCDCCritical Dimension：关键尺寸，线宽。Overlay：套合度。Total Pitch：第一层的套合度。CDC22SRSRResist ThicknessResist Thickness：光阻的厚度测量。SR23EtchEtchEtching ：用强酸将玻璃中未受光阻保护的那部分ITO腐蚀，留下所需图形的过程。主要控制参数：主要控制参数：蚀刻液浓度 ，蚀刻液温度，蚀刻时间，喷淋压力。主要品质异常：主要品质异常：蚀刻不净，ITO过蚀，以及由涂布异常而引起的蚀刻异常。Etching24EtchEtch蚀刻液：蚀刻液：ITOITO我们用我们用HNOHNO3 3与与HClHCl的混酸。的混酸。MAMMAM我们用我们用HNOHNO3 3，H H3 3POPO4 4和和HAcHAc的混酸。的混酸。Etching25StripStripStr