外文翻译--用自由铬预先处理在 AZ91 D 镁合金上电镀 Ni－P层 中文版.doc

用自由铬预先处理在AZ91D镁合金上电镀NiP层摘要磷酸盐-锰转换镀膜作为预处理层在NiP涂层和AZ91D镁合金基片之間被提出来，加上HF预先处理代替传统的铬氧化物。后成的Nip以它的结构、形态、微硬度和抗腐蚀性放置在层上。在基体上的处理层不仅减少镁在电镀过程中的硬度，而且减少基体和二次相之间的潜在不同。因此，AZ91D镁合金上获得一个精细密集结构的NiP的涂层，比在氧化镁上加HF上电镀NiP表现出较好的抵腐蚀性。关键词：无铬预先处理；镁合金；腐蚀抵抗1.介绍镁和它的合金在多数中扮演重要角色田地，像是航空宇宙、电子学和汽车田地由于他们的较高强度和好的抗阻尼能力。然而，那镁合金由于它不需要的性质如抗腐蚀性差和耐磨性不好被限制使用，镁合金的腐蚀取决于他们的冶金和环境的因素。改善那镁合金的实际用法，许多研究员有尝试发展防锈和高度穿着抵抗策略。电镀沉淀是一种多样的化学沉淀技术，包括解决的金属的沉淀在表面之上没有应用外部的电电压9而且被认为是简单、最经济的方法。另外地完成钢、铝、铜、塑料和多数材料。电镀沉淀的另一个优点是获得好质量的沉积物对基片的几何形状和对导体和绝缘体的沉积能力没有特殊的要求。在电镀金属领域，电镀镍由于它的优秀的特性，如高强度和低腐蚀性呈现出了更多的普及而且已经吸引学术界的广泛的兴趣。然而，在镁合金上的电镀，在电镀的处理中的许多挑战而且有限制在镁合金上的报告.镁合金对流电的腐蚀极易受影响，严重地在金属上造成粗糙的外表和机械的能力减少。最困难部份是，电镀镁正在发展一个适当的预先处理程序，一经适当的解决多数金属可能是能需要镀金属的。现在有一种解决方法，对镁在电镀之前：锌浸渍在包含氟化物浴中的转变.在电镀上的许多早先的报告中镁合金被蚀刻了在铬氧化物和氮的酸解决方面而且浸湿在HF解决形成电镀NiP前的一个转变。然而，金属终结工业必须找寻替代选择材料或明确地沉淀方法代替六价铬化合物，是逐渐地由于他们的高毒性限制在环境上19和HF也展现不能够容易地的强壮的腐蚀物控制。因此，那环境技术已经广泛地被应用于禁止镁腐蚀。而且，镍离子由基本镍碳酸盐提供在大多数的NiP的电镀中给镁的浴成合金。在我们的早先研究中，在AZ91D镁合金上电镀NiP的沉淀技术，被电镀浴包含合金后的硫酸盐镍在铬氧化物的酸解决方面是有成效的，而且在HF上形成一个MgF2。目前工作，一个电镀铬解决预先处理在AZ91D镁合金上的技术。后来的NiP的电镀在电镀浴中被了解在镍离子是由硫酸盐镍提供的。它的结构、形态的特点，腐蚀特性和微硬度。在镁上的NiP的合金电镀使基体成合金与预先处理在六价铬和HF方面的问题就解决了。2.实验的程序AZ91D镁合金金属容模基片是30毫米×30毫米×3毫米的大小。它的合金化学成分在表1中列出。在研磨之后，基片在碱性中被清理除去在镁合金表面上的土壤或油脂而且彻底地冲洗在被除去离子的水除去所有的碱。然后镁合金样品在预先处理浸浴2分钟，在H3PO4和Mn（H2PO4)2是主要的成分。在蒸馏的水中被冲洗之后，样品被浸了溶液中产生电镀NiP的沉淀层。电镀溶液被放在一个1000毫升玻璃烧杯中，它通过恒温器保持恒温。这个电镀槽的结构和所有的操作参数为预先处理和电镀的NiP的沉淀在表2被列出.表-1铝锌锰镍铁铜钙硅镁8.770.740.180.0010.0010.001<0.01<0.01平衡表-2步骤操作电镀槽成分(g/l)处理1研磨2000号砂纸2碱性去污NaOHOHPONa24312244)(POHMN)%85(43VNPOH45100.515mlC6512分钟室温3预处理242OHCOHCHCH23)%80(3VNHNO20ml50ml5ml4电镀NI-POHNiSO246.OHPONaH222OHNaC32151413PH值6.4HF24HFNH稳定剂12ml/l80.001温度82°C3.结果和讨论3.1.组成部分和涂层的形态自从镁成为最活跃之一的化学金属，当与空气或水、氧化物和氢氧化层很快出现在表面上,对涂层和均匀性有一系列的损害效果。镁合金上的准被动薄膜的稳定性远小于通常的被动薄膜，它一般用于铝合金和不锈钢上这个薄膜仅仅为镁合金提供很少的抗腐蚀性能。同时，AZ91D合金包含的主要成分是被-Mg17Al12共晶混合物包围的镁合金颗粒。内部电偶腐蚀主要是由二次相书数和杂质产生4.结论磷酸盐锰的转变薄膜被用在了在为AZ91D镁合金基板上电镀NiP的预处理层上基体表面产生电流腐蚀，并且减少基质和二次相之间电势差的不同。随后NI-P层变得更紧密，缺陷减少，与传统的预处理相比呈现出更好的抗腐蚀性。总的来说，在AZ91D镁合金上的自由鉻层当作预处理层促进电镀NI-P沉淀，改善表面的抗腐蚀性可能当做处理前的层。